Tankoplastne strukture in plazemsko inženirstvo površin

author: Miran Mozetič, Odsek za tehnologijo površin in optoelektroniko, Institut "Jožef Stefan"
produced by: S.TV.A.d.o.o.
published: Aug. 14, 2013,   recorded: June 2013,   views: 62
Categories

Related content

Report a problem or upload files

If you have found a problem with this lecture or would like to send us extra material, articles, exercises, etc., please use our ticket system to describe your request and upload the data.
Enter your e-mail into the 'Cc' field, and we will keep you updated with your request's status.
Lecture popularity: You need to login to cast your vote.
  Bibliography

Description

Nove tankoplastne strukture, kompozitni materiali in s plazmo obdelane površine temeljijo na razvoju tankih plasti in znanosti površin. Z namenom, da bi razumeli interakcijo radikalov plazme s trdimi površinami polimerov in kompozitov bomo reaktivno kisikovo plazmo preiskali z optično spektrometrijo in s katalitičnimi sondami. Kisikovo plazmo bomo uporabili za nove tehnološke postopke, ki vključujejo selektivno jedkanje, čiščenje v plazmi, hladno upepeljevanje in stirilizacijo. Za izboljšanje obrabne odpornosti in zmanjšanje trenja bomo preiskali fizikalne in tribološke lastnosti nove generacije površinskih prevlek, kot so nanokompoziti, večplastne strukture in super strukture, ogljikove prevleke in kovinske prevleke, ki vsebujejo ogljik. Preiskovali bomo uporabnost prevlek za zaščito orodij, ki jih uporabljamo za obdelavo trdih materialov, s suhim mazanjem in pri povišani temperaturi ter pri obdelavi kompozitov. Plazemske postopke bomo preiskali med nanosom trdih prevlek z masno in energijsko ločljivo spektroskopijo. Obdelava površin s plazmo bo omogočila zamenjavo nekaterih elektrokemičnih depozicijskih postopkov, ki so ekološko škodljivi. Depozicijo v plazmi (PVD-postopek) bomo uporabili tudi za nanos tankoplastnih kvazikristalov in trdnih oksidnih elektrolitov za gorivne celice. Natančno karakterizacijo površin, notranjih faznih mej in globinskih profilov bomo dosegli z visoko ločljivo AES profilno analizo; uporabili bomo ionsko jedkanje z dvema curkoma ionov z nizko energijo, pri velikem vpadnem kotu in/ali z rotacijo vzorca med analizo. Sestavo, kristalno strukturo in topografijo površin materialov ter tankoplastnih struktur obdelanih v plazmi bomo preiskali z večimi metodami, kot so AES, XPS, SPEM, SEM, TEM, XRD, EXAFS in AFM. Predvidevamo, da bodo rezultati, dobljeni v okviru tega programa, uporabni na področju znanosti površin in plazme, v tehnologiji prevlek in pri obdelavi površin.

Link this page

Would you like to put a link to this lecture on your homepage?
Go ahead! Copy the HTML snippet !

Write your own review or comment:

make sure you have javascript enabled or clear this field: